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源卓微纳总部研发大楼(一期)主体结构在苏州工业园区顺利封顶

 

近日,源卓微納總部研發(fā)大樓(一期)主體結(jié)構順利完成封頂,項目迎來重要進展,向竣工投用又邁進了一步。

 

 

源卓微納科技(蘇州)股份有限公司成立于2016年,經(jīng)過近8年的開拓,公司市場占有率、品牌影響力、業(yè)務體量快速提升,在整體規(guī)模上到了一個新的臺階。為深化公司運營機制、優(yōu)化企業(yè)商業(yè)版圖,源卓微納在不斷的市場變化中擁抱變化,于組織架構、產(chǎn)品研發(fā)、公司戰(zhàn)略上細化運作。

 

目前,源卓微納重點開發(fā)了無掩模及投影光刻曝光機、數(shù)字光學設備關鍵部件及裝置等產(chǎn)品,為高端電子電路、IC載板、先進封裝、微機電系統(tǒng)(MEMS)、泛半導體、太陽能和微納器件制造提供生產(chǎn)設備和工藝解決方案。新研發(fā)大樓應運而生,將進一步賦能公司產(chǎn)業(yè)升級,為源卓微納高速穩(wěn)健發(fā)展再添強大引擎。

 

總部研發(fā)大樓的建立是踐行源卓微納發(fā)展規(guī)劃的重要舉措,展示出企業(yè)集中技術力量深耕產(chǎn)品、推動產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新升級的決心。企業(yè)負責人表示,源卓微納將以研發(fā)大樓的封頂為新起點,不斷加大研發(fā)投入、提升創(chuàng)新效能,為半導體和光伏行業(yè)帶來更多的發(fā)展和突破。

 

文章來源: 苏州工业园区网站
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2024-1-27 20:11
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